邁可諾技術(shù)有限公司
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詳細(xì)摘要： 恩科優(yōu)光刻機(jī)分為半自動(dòng)和全自動(dòng)兩大系列。其中，NXQ4000系列光刻機(jī)是以半自動(dòng)系統(tǒng)為主。該系統(tǒng)*的操作性，超高的分辨率，均勻的光學(xué)系統(tǒng)，穩(wěn)定的接近式和接觸式光...
產(chǎn)品型號(hào)：NXQ4000系列所在地：上海市更新時(shí)間：2021-05-21 在線留言
詳細(xì)摘要： MYCRO*荷蘭MMA16光刻機(jī)（Mask Aligner），是的光刻系統(tǒng)，為半導(dǎo)體制造和科研領(lǐng)域提供品質(zhì)優(yōu)良穩(wěn)定的全波段紫外光刻機(jī)系統(tǒng)，廣泛的應(yīng)用于半導(dǎo)體光刻...
產(chǎn)品型號(hào)：MMA16所在地：上海市更新時(shí)間：2021-05-21 在線留言
詳細(xì)摘要： 光刻機(jī)分為半自動(dòng)和全自動(dòng)兩大系列。MEMA-800是研發(fā)中心和大學(xué)中的微機(jī)開發(fā)。操縱器，壓力傳感器，加速度傳感器，功率設(shè)備等。倒裝芯片/BGA/CSP的暴露。暴...
產(chǎn)品型號(hào)：MEMA-800所在地：上海市更新時(shí)間：2021-05-20 在線留言
詳細(xì)摘要： 光刻機(jī)分為半自動(dòng)和全自動(dòng)兩大系列。MPEM系列是高精度的雙向掩模對(duì)準(zhǔn)器，在晶片的頂側(cè)和底側(cè)包括對(duì)準(zhǔn)光學(xué)系統(tǒng)，因此可以與頂側(cè)對(duì)準(zhǔn)對(duì)頂側(cè)表面進(jìn)行接觸，軟接觸和接近圖...
產(chǎn)品型號(hào)：MPEM-1600所在地：上海市更新時(shí)間：2021-05-20 在線留言您感興趣的產(chǎn)品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
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